最近几天，华中科技大学机械工程学院柳时元教授成功开发出国内首个完全自主可控，可用于芯片制造的OPC软件，并实现了成果转化和产业化，填补了国内在该领域的空白。

据柳时元称，光刻是芯片制造中最关键的工艺通过光刻成像系统，将设计的图案转移到硅片上伴随着芯片尺寸的缩小，硅片上的曝光图形会发生畸变在光刻制造90nm甚至180nm芯片之前，必须使用一类叫做OPC的算法软件进行优化没有OPC，所有的IC制造商都将失去将芯片设计转化为芯片产品的能力目前，全球OPC工具软件市场完全被新思科技，门拓，ASML—布里翁等三家美国公司占据

从基础研究到产业应用，我们团队走了十年十年磨一剑，就是为了解决芯片从设计到制造的粘片问题下一步，我们将加快产品推广步伐，加快进入国内外芯片厂商市场，努力成为全球芯片产业链的重要一环柳时元说道

根据消息显示，柳时元是华中科技大学集成电路测量设备研究中心主任，也是光谷实验室集成电路测量与测试技术创新中心主任早年师从华中科技大学原校长，著名力学家杨树子院士，1998年获工学博士学位

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